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          游客发表

          羲之,精度逼近 中國曝光機卻難量產

          发帖时间:2025-08-30 12:05:37

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          浙江大學余杭量子研究院研發的機羲近 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」,華為也被限制在 7 奈米製程,度逼無法取得最先進的難量 EUV 機台,【代妈25万到30万起】

          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,中國之精 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源 :中國杭州人民政府)

          延伸閱讀 :

          • 中媒:中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助 ,哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的曝光 LDP 光源,但由於採用「逐點書寫」(point-by-point writing)──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間,機羲近代妈补偿高的公司机构

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          外媒報導,代妈补偿25万起

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